专利名称：基板处理系统的洗净方法和基板处理系统专利类型：发明专利
发明人：沼仓雅博,望月宏朗,饭岛清仁申请号：CN200910128448.0申请日：20090317公开号：CN101540274A公开日：20090923
摘要：本发明提供一种基板处理系统的洗净方法和基板处理系统，能够在适当条件下适当地洗净收容室。在基板处理系统(10)中，系统控制器(25)的CPU执行如下洗净处理，在此后要执行的制品处理与以批次执行的最初的制品处理相当时，在后面的批次和前面的批次的时间间隔在预先设定的规定时间以内，且在之前的批次中执行的最后的制品处理的种类与在后面执行的最初的制品处理的种类相同的情况下，对制品处理的执行次数累加“1”，对包含累加后的制品处理实施的晶片(W)的批次，参照已设定的系统方案，执行在该系统方案中记载的与腔室(21)对应的清洗处理。
申请人：东京毅力科创株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人：龙淳
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